蒸着技術、スパッタ、光学膜、電磁波、検査器、生産風景です。

河合光学 株式会社 KAWAI OPTICS CO.,LTD
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製品情報
蒸着技術詳細
蒸着のしくみ
蒸着のしくみ 真空蒸着とは、1.0E-3Pa以下の真空中で金属や酸化物等を電子銃などで加熱し蒸発させ、発生した分子を基板表面に堆積させ、薄膜を形成させる技術です。
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スパッタのしくみ
スパッタのしくみ スパッタとは、1.0E-2Pa以下の真空中に不活性ガス(主にArガス)を導入しながら基板とスパッタ材間に直流高電圧を印加し、イオン化したArをスパッタ材に衝突させて、はじき飛ばされたスパッタ物質を基板に成膜させる技術です。
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主な蒸着膜およびスパッタ膜
  利用されることの多い蒸着膜、スパッタ膜です。
  この他にも多くの物質に対応させていただいております。お気軽にお問い合わせ下さい。
Ag MgF2 フッ化マグネシウム Ti チタン
Al アルミニウム MgO 酸化マグネシウム TiC 炭化チタン
Al2O3 アルミナ Mo モリブデン TiN 窒化チタン
AlF3 フッ化アルミニウム Na3AlF6 クリオライト TiO2 二酸化チタン
Au Na5Al3F14 チオライト W タングステン
BaF2 フッ化バリウム Nb ニオブ WO3 酸化タングステン
CaF2 フッ化カルシウム Nb2O5 酸化ニオブ Y イットリウム
CeF3 フッ化セリウム Ni ニッケル Y2O3 酸化イットリウム
CeO2 酸化セリウム Pd パラジウム YF3 フッ化イットリウム
Co コバルト Pt 白金 YbF3 フッ化イットリビウム
Cr クロム Ru ルテニウム Zn 亜鉛
Cr2O3 酸化クロム Si シリコン ZnO 酸化亜鉛
Cu Si3N4 窒化ケイ素 ZnS 硫化亜鉛
Fe SiC 炭化ケイ素 Zr ジルコニウム
Ge ゲルマニウム SiO2 二酸化ケイ素 ZrC 炭化ジルコニウム
HfO2 酸化ハフニウム SmF3 フッ化サマリウム ZrN 窒化ジルコニウム
In インジウム Sn スズ ZrO2 酸化ジルコニウム
In2O3 酸化インジウム SnO2 酸化スズ DLC ダイヤモンドライクカーボン
ITO 酸化インジウムスズ Ta タンタル  撥水コート
LaF3 フッ化ランタン Ta2O5 五酸化タンタル  撥油コート
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光学膜のしくみ
光学膜のしくみ 光学膜とは単層または多層(1層〜数百層)の構成より成り立ち、
各層の境界面で生じる光の反射の干渉を利用し、 必要な反射特性及び透過特性をもつ製品です。
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光と真空と薄膜をテーマに
  光学分野  200nm〜25μmの電磁波におけるミラー/フィルターの製造にあたり、光の種類
 (紫外線、可視光線、赤外線など)や、使用環境を十分に考慮しながら、これまで
 蓄積されたデータを元に、お客様に最適な薄膜を提案しております。
 また精密な薄膜設計と、当社で開発した成膜システムにより、レーザー波長など
 ご希望の波長の光を選択的に取り出したり、カットすることが 可能です。
  真空分野  真空分野では、コーティングを含め、真空を利用した様々な装置への応用も
 手掛けております。
 ・コーティング装置  真空蒸着装置 スパッタリング装置 CVD装置など
 ・その他  ドライエッチング 真空焼結装置など
  薄膜分野  導電性、高硬度性、絶縁性、撥水性、撥油性、防曇性、メタライズなどの
 特性をもたせた、機能性薄膜の製造も行なっております。
 機能性薄膜
 ・撥水性  ・撥油性  ・防曇性  ・メタライズ 
 ・高硬度性  DLC TiN TiCなど
 ・バリア膜  Si3N4 SiC ZrC ZrNなど
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電磁波の名称と波長
スペクトル図
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検査器、生産風景
分光光度計
当社の製品は分光光度計
を使用し、光学特性を
測定します。
綿密な測定を行い、
品質を保証してます。
生産風景(蒸着)

<分光光度計

生産風景(蒸着)>


干渉計
当社の製品はレーザー干渉計
を使用し、基板表面の平面度を
測定します。
生産風景(検査)

<干渉計

生産風景(検査) >


マイクロスコープ
当社の製品はデジタル顕微鏡
を使用し、基板表面の外観
(キズ・汚れ等)・角度・寸法を
測定します。
生産風景(蒸着)

<マイクロスコープ

生産風景(蒸着) >


レーザー顕微鏡
◇当社の製品はレーザー顕微鏡
を使用し、表面形状を測定します。
非破壊・非接触で深さ 0.01μm
まで測定可能という高精度な測定
を行います。  (観察倍率 250〜2.500倍)
 

<レーザー顕微鏡

 

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