蒸着技術、スパッタ、光学膜、電磁波、検査器、生産風景です。

■	蒸着のしくみ

真空蒸着とは、1.0E-3Pa以下の真空中で金属や酸化物等を電子銃などで加熱し蒸発させ、発生した分子を基板表面に堆積させ、薄膜を形成させる技術です。

■	スパッタのしくみ

スパッタとは、1.0E-2Pa以下の真空中に不活性ガス（主にArガス）を導入しながら基板とスパッタ材間に直流高電圧を印加し、イオン化したArをスパッタ材に衝突させて、はじき飛ばされたスパッタ物質を基板に成膜させる技術です。

■	主な蒸着膜およびスパッタ膜

利用されることの多い蒸着膜、スパッタ膜です。　　この他にも多くの物質に対応させていただいております。お気軽にお問い合わせ下さい。

■	光学膜のしくみ

光学膜とは単層または多層（１層～数百層）の構成より成り立ち、
各層の境界面で生じる光の反射の干渉を利用し、必要な反射特性及び透過特性をもつ製品です。

■	光と真空と薄膜をテーマに

光学分野	200nm～25μmの電磁波におけるミラー/フィルターの製造にあたり、光の種類　（紫外線、可視光線、赤外線など）や、使用環境を十分に考慮しながら、これまで　蓄積されたデータを元に、お客様に最適な薄膜を提案しております。　また精密な薄膜設計と、当社で開発した成膜システムにより、レーザー波長など　ご希望の波長の光を選択的に取り出したり、カットすることが　可能です。
真空分野	真空分野では、コーティングを含め、真空を利用した様々な装置への応用も　手掛けております。
	・コーティング装置	真空蒸着装置　スパッタリング装置　CVD装置など
	・その他	ドライエッチング　真空焼結装置など
薄膜分野	導電性、高硬度性、絶縁性、撥水性、撥油性、防曇性、メタライズなどの　特性をもたせた、機能性薄膜の製造も行なっております。
	機能性薄膜
	・撥水性	・撥油性	・防曇性	・メタライズ
	・高硬度性	DLC　TiN　TiCなど
	・バリア膜	Si3N4　SiC　ZrC　ZrNなど

■	電磁波の名称と波長

■	検査器、生産風景

当社の製品は分光光度計
を使用し、光学特性を
測定します。
綿密な測定を行い、
品質を保証してます。

＜分光光度計

生産風景（蒸着）＞

当社の製品はレーザー干渉計
を使用し、基板表面の平面度を
測定します。

＜干渉計

生産風景（検査）＞

当社の製品はデジタル顕微鏡
を使用し、基板表面の外観
（キズ・汚れ等）・角度・寸法を
測定します。

＜マイクロスコープ

生産風景（蒸着）＞

◇当社の製品はレーザー顕微鏡
を使用し、表面形状を測定します。
非破壊・非接触で深さ 0.01μm
まで測定可能という高精度な測定
を行います。　（観察倍率 250～2.500倍）

＜レーザー顕微鏡

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